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南大光电:建设高端集成电路制造用光刻胶材料项目 一期总投资9.6亿元

   时间:2018-06-20 11:53:33     浏览:24    评论:0    
核心提示:  证券时报网01月12日讯  南大光电1月12日晚公告,公司与宁波经济技术开发区管理委员会签订投资协议书,公司拟在宁波开发区投资建设高端集成电路制造用193nm光刻胶材料以及配套关键材料研发及生产项目,项目总用地面积约86亩,其中一期总投资预计约9.6亿元。  

  证券时报网01月12日讯

  南大光电1月12日晚公告,公司与宁波经济技术开发区管理委员会签订投资协议书,公司拟在宁波开发区投资建设高端集成电路制造用193nm光刻胶材料以及配套关键材料研发及生产项目,项目总用地面积约86亩,其中一期总投资预计约9.6亿元。

  

 
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